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PRODUCT
产品信息
显微分光膜厚仪 OPTM series
● 非接触 · 非破坏 · 显微、对焦、测量1秒完成 ● OPTM系列显微分光膜厚仪是一款可替代椭偏仪,测试膜厚、折射率n、消光系数k、绝对反射率的新型高精度、高性价比的分光膜厚仪。适用于各种可透光膜层的测试,并有独家专利可针对透明基板去除背面反射,从而达到“真实反射率、膜厚”测试的目的。此外,软件操作简单、使用方便且简化了复杂的建模流程。...
全国热线
0512-62589919

产品特色

  动画




● 非接触、非破坏式,量测头可自由集成在客户系统内

● 初学者也能轻松解析建模的初学者解析模式

● 高精度、高再现性量测紫外到近红外波段内的绝对反射率,可分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率、k:消光系数)

● 单点对焦加量测在1秒内完成

● 显微分光下广范围的光学系统(紫外 ~ 近红外)

● 独立测试头对应各种inline定制化需求

● 最小对应spot约3μm

● 独家专利可针对超薄膜解析nk

量测项目

●  绝对反射率分析

●  多层膜解析(50层)

●  光学常数(n:折射率、k:消光系数)

膜或者玻璃等透明基板样品,受基板内部反射的影响,无法正确测量。OPTM系列使用物镜,可以物理去除内部反射,即使是透明基板也可以实现高精度测量。此外,对具有光学异向性的膜或SiC等样品,也可完全不受其影响,单独测量上面的膜。

(专利编号    第 5172203 号)
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应用范围

● 半导体、复合半导体:硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体、光刻胶、介电常数材料

● FPD:LCD、TFT、OLED(有机EL)

● 资料储存:DVD、磁头薄膜、磁性材料

● 光学材料:滤光片、抗反射膜

● 平面显示器:液晶显示器、薄膜晶体管、OLED

● 薄膜:AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它:建筑用材料、胶水、DLC等


规格式样

(自动XY平台型)




OPTM-A1

OPTM-A2

OPTM-A3

波长范围

230 ~ 800 nm

360 ~ 1100 nm

900 ~ 1600 nm

膜厚范围

1nm ~ 35μm

7nm ~ 49μm

16nm ~ 92μm

测定时间

1秒 / 1点以内

光径大小

10μm (最小约3μm)

感光元件

CCD

InGaAs


光源规格

氘灯 卤素灯

卤素灯


尺寸

556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自动XY平台型的主体部分)

重量

66kg(自动XY平台型的主体部分)


OPTM 选型

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自动XY平台型

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固定框架型

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嵌入头型


量测案例

半导体行业 - SiO2、SiN膜厚测定案例

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半导体工艺中,SiO2用作绝缘膜,而SiN用作比SiO2更高介电常数的绝缘膜,或是用作CMP去除SiO2时的阻断保护,之后SiN也被去除。绝缘膜的性能像这样被使用时,为了精确的工艺控制,有必要测量这些膜厚度。


FPD行业 - 彩色光阻膜厚测定


彩色滤光片薄膜的制程中,一般将彩色光阻涂布在整个玻璃表面,通过光刻进行曝光显影留下需要的图案。RGB三色依次完成此工序。

彩色光阻的厚度不恒定是导致RGB图案变形、彩色滤光片颜色偏差的原因,因此对彩色光阻的膜厚管理非常重要。


FPD行业 – 用倾斜模式解析ITO构造



ITO膜是液晶面板等使用的透明电极材料,制膜后需经过退火处理(热处理)提升导电性和透光性。此时,氧状态和结晶性发生变化,使得膜厚产生阶段性的倾斜变化。在光学上不能看作是构成均一的单层膜。

对这样的ITO用倾斜模式,由上部界面和下部界面的nk值,对倾斜程度进行测量。


半导体行业 – 使用界面系数测定粗糙基板上的膜厚


如果基板表面非镜面且粗糙度大,则由于散射,测量光降低且测量的反射率低于实际值。

通过使用界面系数,因为考虑到了基板表面上的反射率的降低,可以测量出基板上薄膜的膜厚值。


DLC涂层行业 – 各种用途DLC涂层厚度的测量


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DLC(类金刚石)涂层由于其高硬度、低摩擦系数、耐磨性、电绝缘性、高阻隔性、表面改性以及与其他材料的亲和性等特征,被广泛用于各种用途。

采用显微光学系统,可以测量有形状的样品。此外,监视器一边确认检查测量位置一边进行测量的方式,可以用于分析异常原因。


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