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大塚電子6月Webinar邀请您参加

作者:超级管理员时间:2023-05-12 05:36:54146 次浏览

信息摘要:

大塚电子利用光技术,开发出各种分析测量装置,给客户提供尖端测量技术支持。以测量技术、应用示例等重点介绍为主,定期举办Webinar(网络研讨会)半导体膜厚研讨会(前工序篇)应对半导体前工序的多样需求,大塚电子膜厚仪产品的特点及应用本次研讨会介绍我司膜厚仪产品在半导体前工序-从裸晶片到配线工序的特点及应用。...

大塚电子利用光技术,开发出各种分析测量装置,给客户提供尖端测量技术支持。

以测量技术、应用示例等重点介绍为主,定期举办Webinar(网络研讨会)。


粒径分布 · Zeta电位测量原理及最新应用实例介绍 

推荐给需要测量粒径分布 · Zeta电位的观众参加。

本次讲习会邀请了大塚電子株式会社的橋田紳乃介专家和观众进行测量经验交流。

讲习会内容涉及粒径分布 · Zeta电位原理、新机型ELSZneo及测量案例介绍等。


时 间 2023年6月14日(周三) 15:00~16:00

申 请 方 法

本研讨会免费参加

通过以下Forms链接,提交参会申请。https://forms.office.com/r/Cz28DRigXQ



半导体膜厚研讨会(前工序篇)

应对半导体前工序的多样需求,大塚电子膜厚仪产品的特点及应用

本次研讨会介绍我司膜厚仪产品在半导体前工序-从裸晶片到配线工序的特点及应用。

邀请了大塚電子株式会社的湊 拓也专家和观众进行半导体膜厚测量经验交流。

研讨会内容涉及半导体制造工序、晶圆厚度和氧化膜膜厚测量技术等。


时 间 2023年6月28日(周三) 15:00~16:00

申 请 方 法

本研讨会免费参加

通过以下Forms链接,提交参会申请。https://forms.office.com/r/1zamcV3ebD


试听方法:申请通过后将收到我们发出的含会议链接的电子邮件。

本研讨会使用Microsoft Teams软件。电脑 · 平板无需下载App,可通过浏览器参加。

※推荐使用浏览器:Microsoft Edge或者Google Chrome

※智能手机需要安装App。

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