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使用光学膜厚测试仪要注意什么,有哪些特征?

作者:admin时间:2021-09-29 03:41:37233 次浏览

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使用光学膜厚测试仪要注意任何一个测量值都是五次看不见的测量平均值,要提起测头距离工件10mm以上,才可以进行下次测量,下面具体介绍一下“使用光学膜厚测试仪的注意事项及特...

使用光学膜厚测试仪要注意任何一个测量值都是五次看不见的测量平均值,要提起测头距离工件10mm以上,才可以进行下次测量,下面具体介绍一下“使用光学膜厚测试仪的注意事项及特征”。
一、使用光学膜厚测试仪的注意事项
1、如果在测量中测头放置不稳,会引起测量值与实际值偏差较大; 
2、如果已经进行了适当的校准,所有的测量值将保持在一定的误差范围内; 
3、仪器的任何一个测量值都是五次看不见的测量平均值; 
4、为使测量更加准确,可在一个点多次测量,并计算其平均值作为终的测量结果; 
5、显示测量结果后,一定要提起测头距离工件10mm以上,才可以进行下次测量; 
6、在测厚仪测量的时候探头要平稳放置,力气不能过大,速度也不能是非常快的点测;光学膜厚测量仪,测试的时候探头千万不要在被测表面划来划去,这样会非常容易造成涂层测厚仪探头损坏。
光学膜厚仪
二、光学膜厚测试仪的特性
1、因为是利用光的方式,所以是非接触式,非破坏式,不会影响实验样品。
2、可获得薄膜的厚度和 n,k 数据。
3、测量迅速正确,且不必为测量而破坏或加工实验样品。
4、可测量 3层以内的多层膜。
5、根据用途可自由选择手动型或自动型。
6、产品款式多样,而且也可以根据顾客的要求设计产品。
7、可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 。
8、Table Top型, 适用于大学,研究室等。
以上是“使用光学膜厚测试仪的注意事项及特征”的介绍,有问题请随时联系我们。
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