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光学膜厚测量仪有何原理,要注意什么?

作者:超级管理员时间:2021-11-19 11:41:0553 次浏览

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光学膜厚测量仪是非接触, 非破坏方式测量,无需样品的前处理,软件支持,要注意在测量中测头要放置平稳,下面具体介绍一下“光学膜厚测量仪的原理及注意事项”。...

光学膜厚测量仪是非接触, 非破坏方式测量,无需样品的前处理,软件支持,要注意在测量中测头要放置平稳,下面具体介绍一下“光学膜厚测量仪的原理及注意事项”。

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一、光学膜厚测量仪的原理

1、SpectraThick series的特点是非接触, 非破坏方式测量,无需样品的前处理,软件支持Windows操作系统等。ST series是使用可视光测量wafer,glass等substrates上形成的氧化膜,氮化膜,Photo-resist等非金属薄膜厚度的仪器。

2、测量原理如下:在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光,这时光的一部分在膜的表面反射,另一部分透进薄膜,然后在膜与底层 (wafer或glass)之间的界面反射。这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。SpectraThick series就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。

二、使用光学膜厚测试仪的注意事项

1、如果在测量中测头放置不稳,会引起测量值与实际值偏差较大; 

2、如果已经进行了适当的校准,所有的测量值将保持在一定的误差范围内; 

3、仪器的任何一个测量值都是五次看不见的测量平均值; 

4、为使测量更加准确,可在一个点多次测量,并计算其平均值作为终的测量结果; 

5、显示测量结果后,一定要提起测头距离工件10mm以上,才可以进行下次测量; 

6、在测厚仪测量的时候探头要平稳放置,力气不能过大,速度也不能是非常快的点测;光学膜厚测量仪,测试的时候探头千万不要在被测表面划来划去,这样会非常容易造成涂层测厚仪探头损坏。

以上是“光学膜厚测量仪的原理及注意事项”的介绍,有问题请随时联系我们。


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