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大塚电子参与CIOE中国光博会
■尖端半导体及将来应用AI、机器学习、5G/6G通信技术、量子计算、汽车(EV、自动驾驶)、VR/金属泊位、宇宙、空移动性/无人机■半导体制造装置半导体用设计装置、掩模制造用装置、晶片制造用装置、晶片工艺用装置、组装用装置、检查用装置、其他关联装置■半导体制造用零件、材料工艺材料、测试材料、组装材料、基板、零件子系统■各种服务・软件
展会名称 大塚电子参与CIOE中国光博会
展会时间 2024-09-11~2024-09-13
举办展馆 深圳国际会展中心(宝安新展馆)

大塚电子(苏州)有限公司将参加2024年CIOE中国光博会,展出位置:3号馆3D13,将展出的产品有:MINUK、OPTM、ELSZ  neo、Smart膜厚計,真空腔体中在线膜厚检测设备,欢迎您前来免费参观。

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产品介绍:

【ELSZneo使光散射的物性评价迈向新舞台】ELSZneo是ELSZ series的最高级机型,除了在稀薄溶液~浓厚溶液中进行zeta电位(Zeta Potential,ζ-电位)和粒径测定之外,还能进行分子量测定的装置。作为新的功能,为了提高粒度分布的分离能力,采用了多角度测定。另外,也可实现测量粒子浓度测定、微流变学测定、凝胶的网状结构分析。全新的zeta电位平板固体样品池,通过新开发的对应高盐浓度的涂层,可以在生理盐水等高盐浓度环境下进行测量。3μL就能测定粒径的超微量样品池也位列其中,从而扩大了生命科学领域的可能性。在0~90℃的宽温度范围内,可以进行自动温度梯度测量的变性相变温度分析。

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产品介绍:

测量项目:[膜厚、折射率n、消光系数k]. 测量原理:[分光干涉法]. 测量对象:[光刻胶、SiO2、Si3N4等]. 测量范围:[1nm~92μm]

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Smart膜厚計

高精度可携带膜厚计

“想测量的‘当场’不能马上测量”

“因人而异的测量结果”

“测量精度差”

测量膜厚的时候,没有这样的经验吗?智能膜厚计具有以下特征,可以解决大家的困难。

可以带去现场的不利条件类型

因为很简单所以谁都能用

即使是不利类型也能进行高精度的测定

有形状的样品也可以用非破坏来测量

真空腔体中在线膜厚检测设备

在真空环境下也可以在多点进行反射、透射光谱测定

通过使用各种法兰对应的耐真空纤维,可以在高真空下测量反射、透射光谱。另外,膜厚运算不易受到基膜的上下移动的影响,并且采用精度良好的薄膜测量大冢电子独自的算法,可以作为实时监视器使用。

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