测量机器

• 显微分光膜厚仪 OPTM series
  

  测量项目：[膜厚、折射率n、消光系数k]. 测量原理：[分光干涉法]. 测量对象：[光刻胶、SiO2、Si3N4等]. 测量范围：[1nm~92μm].
• 膜厚量测仪 FE-300
  

  产品信息 特 长 薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析 高性能的低价光学薄膜量测仪 藉由绝对反射率光谱分析膜厚 完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能 无复杂设定，操作简单，短時
• 嵌入式膜厚检测仪
  

  产品信息 特 点 采用分光干涉法 搭载高精度FFT膜厚解析系统（专利 第4834847号） 使用光学光纤，可灵活构筑测量系统 可嵌入至各种制造设备。 实时测量膜厚 可对应远程操作、多点测量
• 线扫描膜厚仪【在线型】
  

  采用线扫描方式检测整面薄膜 硬件软件均为创新设计 作为专业膜厚测定厂商，提供多种支援 实现高精度测量（已获取专利） 实现高速测量 不受偏差影响 可对应宽幅样
• 分光干涉式晶圆膜厚仪 SF-3
  

  即时检测 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于减薄制程中的厚度变化 (强酸环境中) 产品特色 非接触式、非破坏性光学式膜厚检测 采用分光干涉法实现高度检测再现性 可进行高速

• 椭偏仪 FE-5000/5000S
  

  产品信息 特点 可在紫外和可见（250至800nm）波长区域中测量椭圆参数 可分析纳米级多层薄膜的厚度 可以通过超过400ch的多通道光谱快速测量Ellipso光谱 通过可变反射角测量，可详细分析
• 线扫描膜厚仪【离线型】
  

  产品信息 特点 全面高速高精度进行薄膜等面内膜厚不均一性检测 硬件软件均为创新设计 作为专业膜厚测定厂商，提供多种支援 实现高精度测量（已取得专利） 实现高速测量（500万点
• 小角激光散射仪 PP-1000
  

  PP-1000小角激光散射仪，利用小角激光散射法（Small Angle Laser Scattering，简称SALS），可以对高分子材料和薄膜进行原位检测，实时解析。与SAXS和SANS的装置相比，检测范围更广。利用偏光Hv散射测量可以进行光学各向异性的评价，解析结晶性薄膜的球晶半径，偏光Vv散射测量可以进行聚合物混合的相关距离的分析。
• 高速相位差测量装置 RE-200
  

  产品信息 特 点 可测从0nm开始的低（残留）相位差 光轴检出同时可高速测量相位差(Re.) （相当于世界最快速的0.1秒以下来处理） 无驱动部，重复再现性高 设置的测量项目少，测量简单
• MCPD series 在线评估测试系统
  

  本公司的MCPD series在线胶卷评价系统，由于光学式非接触·非破坏的膜厚，浓度，颜色等的检查可能。可测定膜厚范围为65nm～92μm和薄膜到厚膜都对应。（折射率1.5时）测量原理为分光干涉方式，在实现高测量再现性的同时，还支持多层厚度测量。由于采用了独自算法，可以高速实时监控，所以作为在线胶片监控，我们提出了最适合的系统。
• 线扫描膜厚仪【在线型】
  

  产品信息 特点 采用线扫描方式检测整面薄膜 硬件软件均为创新设计 作为专业膜厚测定厂商，提供多种支援 实现高精度测量（已获取专利） 实现高速测量 不受偏差影响 可对应宽幅样

• 多通道光谱仪 MCPD-9800 / 6800
  

  产品信息 特长 应用广泛的测量仪。 以最高机型MCPD-9800为首，一共有3种对应12波长领域的测量仪。 我们可以根据客户的需求和用途提出最适合的方案。 不同评价方法对应不同设备 ◎
• 彩色滤光片、彩色光刻胶测量装置 LCF SERIES
  

  产品信息 特点 以透过光谱测量、色测量为代表，通过浓度测量、膜厚测量、反射光谱测量等，可对应彩色滤光片制造工程中的所有检查的装置 可用于彩色滤光片的光学特性或玻璃基板
• Load Port对应膜厚测量系统 GS-300
  

  产品信息 特点 支持集成到 Φ300mm EFEM 单元的备用端口 实现嵌入在晶片中的布线图案的图案对齐 支持半导体工艺的高吞吐量要求 支持槽口对齐功能 小尺寸规格 高精度自动校准单元 自动
• 液晶层间隙量测设备 RETS series
  

  产品信息 特 点 采用了偏光光学系和多通道分光检出器 有可对应各种尺寸的装置，从1mm大小的光学素子到第10代的大型基板 安全对策和粒子对策，可对应液晶line内的检查设备 测量项目
• 嵌入式膜厚检测仪
  

  产品信息 特 点 采用分光干涉法 搭载高精度FFT膜厚解析系统（专利 第4834847号） 使用光学光纤，可灵活构筑测量系统 可嵌入至各种制造设备。 实时测量膜厚 可对应远程操作、多点测量
• 显微分光膜厚仪 OPTM series
  

  ●非接触 · 非破坏 · 显微、对焦、测量1秒完成 ●OPTM系列显微分光膜厚仪是一款可替代椭偏仪，测试膜厚、折射率n、消光系数k、绝对反射率的新型高精度、高性价比的分光膜厚仪。适用于各种可透光膜层的测试，并有独家专利可针对透明基板去除背面反射，从而达到“真实反射率、膜厚”测试的目的。此外，软件操作简单、使用方便且简化了复杂的建模流程。

• 液晶层间隙量测设备 RETS series
  

  产品信息 特 点 采用了偏光光学系和多通道分光检出器 有可对应各种尺寸的装置，从1mm大小的光学素子到第10代的大型基板 安全对策和粒子对策，可对应液晶line内的检查设备 测量项目
• OPTM series 嵌入型
  

  利用显微微分光膜厚计OPTM series的高精度、微小光点，在线提供制作晶片图案后的微小区域测量等膜厚信息。
• 膜厚测量系统 FE-3700/5700
  

  产品信息 特殊长度 可以高速、高精度地测量各种玻璃基板上各种薄膜的膜厚和光学常数。 除了支持包括下一代尺寸在内的大型玻璃基板外，它还支持 LCD、TFT 和有机 EL。 用法 LCD ITO
• 彩色滤光片、彩色光刻胶测量装置 LCF SERIES
  

  产品信息 特点 以透过光谱测量、色测量为代表，通过浓度测量、膜厚测量、反射光谱测量等，可对应彩色滤光片制造工程中的所有检查的装置 可用于彩色滤光片的光学特性或玻璃基板
• 用于透过率/吸光度测量的多通道光谱仪MCPD series
  

  是从紫外到近红外领域对应的多功能多通道分光检测器。最短5ms即可进行光谱测量。标准装置的光纤可支持各种测量系统，而无需确定样品种类。以显微分光、光源发光、透射、反射测定为首，通过与软件的组合，也可以对应物体颜色评价、膜厚测定等。
• 高灵敏度光谱仪 HS-1000
  

  特点： 采用具有高亮度和色度精度的光谱方法（衍射光栅）， 0.005cd / m 2的超低亮度到400000cd / m 2的高亮度都可测量， 对应CIE推荐的宽波长范围（355 nm至835 nm） 独特的光学系统降低了

• 总光谱光通量测量系统 HM/FM series
  

  产品信息 特点 可处理高达2400mm的直管光学总光通量测量 测量系统符合IESNA的LM-79和LM-80标准 采用新的探测器，可以进行广动态范围的测量 测量部分的尺寸（积分球或积分半球）从250毫
• 紫外分光辐射照度测量系统 New
  

  产品信息 特征 该检测器 是一种高性能的分光光度计 ，在光源测量、反射/透射测量、过程测量等 方面取得 了 多项成果 。 覆盖从紫外线到可见光的宽波长范围 带软件的样品照明电源
• 紫外分光全光谱光通量测量系统
  

  产品信息 特征 具有高灵敏度检测器的宽测量范围 具有紫外线自吸收校正的高精度测量 配备温度控制单元，可从-110C进行温度控制 涵盖从紫外线到可见光的波长范围 电源、温控单元、
• 紫外分光配光测量系统
  

  产品信息 特征 通过分光光度分布对紫外光进行高精度测量 从配光上评估紫外光的最大发光强度、光束开度、光束光通量 涵盖从紫外线到可见光的波长范围 支持从 LED 芯片到模块和应用
• 分光辐射照度测量系统
  

  产品信息 特殊长度 该检测器 是一种高性能的分光光度计 ，在光源测量、反射/透射测量、过程测量等 方面取得 了 多项成果 。 覆盖从紫外线到可见光和可见光到红外线的宽波长范围
• 高速LED光学特性仪 LE series
  

  产品信息 特 点 与产线的控制信号同步 通过光纤的自由的测试系统 实现最短2ms～的光谱测量（LE-5400） 同以往的产品相比，测量?演算?评价1个周期有可到半分钟以下的高速机型 测量

• 高感度分光辐射亮度计 HS-1000
  

  特点： 采用具有高亮度和色度精度的光谱方法（衍射光栅）， 0.005cd / m 2的超低亮度到400000cd / m 2的高亮度都可测量， 对应CIE推荐的宽波长范围（355 nm至835 nm） 独特的光学系统降低了
• 量子效率测量系统 QE-2100
  

  产品信息 特 点 测量精度高 可瞬间测量绝对量子效率（绝对量子收率） 可去除再激励荧光发光 采用了积分半球unit，实现了明亮的光学系 采用了低迷光多通道分光检出器，大大减少了
• 高灵敏度近红外量子效率测量系统 QE-5000 New
  

  产品信息 特殊长度 可以测量0.01%或更低的单线态氧的产生量子产率。 单线态氧 (1270 nm) 的简单直接光谱观察 可在用于生物应用等的水性溶剂中测量。 传统方法难以在轻溶剂中进行测量