非接触薄膜测厚仪-膜厚测量仪-激光粒度仪-激光粒度分析仪-大塚电子

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ZETA电位 · 粒径 · 分子量测系统·ELSZ-2000系列

●可测量稀薄溶液~浓厚溶液的ZETA电位和粒径，并可进行分子量测量的检测装置。●适用于粒径测量范围（0.6nm~10um）,浓度范围（0.00001%~40%）。对电渗透流进行实测，可通过最小容量130μL 微量可抛式样品池实现...
ZETA电位 · 粒径 · 分子量测系统·ELSZ-2000系列

●可测量稀薄溶液~浓厚溶液的ZETA电位和粒径，并可进行分子量测量的检测装置。●适用于粒径测量范围（0.6nm~10um）,浓度范围（0.00001%~40%）。对电渗透流进行实测，可通过最小容量130μL 微量可抛式样品池实现...
ZETA电位 · 粒径 · 分子量测系统·ELSZ-2000系列

●可测量稀薄溶液~浓厚溶液的ZETA电位和粒径，并可进行分子量测量的检测装置。●适用于粒径测量范围（0.6nm~10um）,浓度范围（0.00001%~40%）。对电渗透流进行实测，可通过最小容量130μL 微量可抛式样品池实现...
NANOSAQLA纳米粒度分析仪

● nanoSAQLA是一台通过动态光散乱法（DLS法）测量粒径（粒径0.6nm~10um）的装置。支持从稀薄到浓厚系广泛浓度范围内的多检体测定的新光学系统，实现了实验室必需的轻量、小型化、标准1分钟的高速测定。另外，这是一款非浸泡型、不受接触器影响、无需自动取样器、标准配备“5检体连续测量”的新产品。...
多样品nano粒子径测量系统 nanoSAQLA（带自动取样器 AS50）

产品信息特点 nanoSAQLA 的特点 1个单元可轻松连续测量5个样品实现了在没有自动进样器的情况下难以实现的多个样品的连续测量，也可以通过改变每个样品的条件进行测量。对应瘦...
ELSZneo多角度纳米粒度及ZETA电位分析仪

【ELSZneo使光散射的物性评价迈向新舞台】ELSZneo是ELSZ series的最高级机型，除了在稀薄溶液~浓厚溶液中进行zeta电位（Zeta Potential，ζ-电位）和粒径测定之外，还能进行分子量测定的装置。作为新的功能，为了提高粒度分布的分离能力，采用了多角度测定。另外，也可实现测量粒子浓度测定、微流变学测定、凝胶的网状结构分析。全新的zeta电位平板固体样品池，通过新开发的对应高盐浓度的涂层，可以在生理盐水等高盐浓度环境下进行测量。3μL就能测定粒径的超微量样品池也位列其中，从而扩大了生命科学领域的可能性。在0~90℃的宽温度范围内，可以进行自动温度梯度测量的变性相变温度分析。...
ZETA电位测量系统 ELSZ-2000Z

产品信息特点使用了最新型高感度APD，感度提升及缩短测量时间通过测量自动温度梯度空间，可分析出変性?相转移温度可测量0～90℃大范围内的温度追加了大范围的分子量测量及...

测量机器/ Measuring machine 查看更多+

显微分光膜厚仪 OPTM series

●非接触 · 非破坏 · 显微、对焦、测量1秒完成 ●OPTM系列显微分光膜厚仪是一款可替代椭偏仪，测试膜厚、折射率n、消光系数k、绝对反射率的新型高精度、高性价比的分光膜厚仪。适用于各种可透光膜层的测试，并有独家专利可针对透明基板去除背面反射，从而达到“真实反射率、膜厚”测试的目的。此外，软件操作简单、使用方便且简化了复杂的建模流程。...
高感度分光辐射亮度计 HS-1000

特点：采用具有高亮度和色度精度的光谱方法（衍射光栅）， 0.005cd / m 2的超低亮度到400000cd / m 2的高亮度都可测量，对应CIE推荐的宽波长范围（355 nm至835 nm）独特的光学系统降低了...
多通道光谱仪 MCPD-9800 / 6800

产品信息特长应用广泛的测量仪。以最高机型MCPD-9800为首，一共有3种对应12波长领域的测量仪。我们可以根据客户的需求和用途提出最适合的方案。不同评价方法对应不同设备 ◎...
膜厚量测仪 FE-300

产品信息特长薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析高性能的低价光学薄膜量测仪藉由绝对反射率光谱分析膜厚完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能无复杂设定，操作简单，短時...
嵌入式膜厚检测仪

产品信息特点采用分光干涉法搭载高精度FFT膜厚解析系统（专利第4834847号）使用光学光纤，可灵活构筑测量系统可嵌入至各种制造设备。实时测量膜厚可对应远程操作、多点测量...
嵌入式膜厚仪 FE-5000/5000S

产品信息特点可在紫外和可见（250至800nm）波长区域中测量椭圆参数可分析纳米级多层薄膜的厚度可以通过超过400ch的多通道光谱快速测量Ellipso光谱通过可变反射角测量，可详细分析...
超高速分光涉式膜厚仪

以非接触方式测量晶圆等的研磨和抛光工艺，超高速、实时、高精度测量晶圆和树脂产品详细信息特点非接触式，非破坏性厚度测量反射光学系统（可从一侧接触测量）高速（最高...
非接触式光学膜厚仪 Emios

产品信息特长非接触式测量不透明、粗糙，易变形的样品反复性?再现性高无标准曲线也可知道绝对厚度测量径很小，不受斑点的影响样品位置无需调整，放进去即可。稳定性高，...
线扫描膜厚仪【在线型】

采用线扫描方式检测整面薄膜硬件软件均为创新设计作为专业膜厚测定厂商，提供多种支援实现高精度测量（已获取专利）实现高速测量不受偏差影响可对应宽幅样...
线扫描膜厚仪【离线型】

产品信息特点全面高速高精度进行薄膜等面内膜厚不均一性检测硬件软件均为创新设计作为专业膜厚测定厂商，提供多种支援实现高精度测量（已取得专利）实现高速测量（500万点...
分光干涉式晶圆膜厚仪 SF-3

即时检测 WAFER基板于研磨制程中的膜厚玻璃基板于减薄制程中的厚度变化 (强酸环境中) 产品特色非接触式、非破坏性光学式膜厚检测采用分光干涉法实现高度检测再现性可进行高速...
全光束测量系统 HM/FM series

产品信息特点可处理高达2400mm的直管光学总光通量测量测量系统符合IESNA的LM-79和LM-80标准采用新的探测器，可以进行广动态范围的测量测量部分的尺寸（积分球或积分半球）从250毫...
紫外分光全光谱光通量测量系统

产品信息特征具有高灵敏度检测器的宽测量范围具有紫外线自吸收校正的高精度测量配备温度控制单元，可从-110C进行温度控制涵盖从紫外线到可见光的波长范围电源、温控单元、...
紫外分光辐射照度测量系统 New

产品信息特征该检测器是一种高性能的分光光度计，在光源测量、反射/透射测量、过程测量等方面取得了多项成果。覆盖从紫外线到可见光的宽波长范围带软件的样品照明电源...
量子效率测量系统 QE-2000/2100

产品信息特点测量精度高可瞬间测量绝对量子效率（绝对量子收率）可去除再激励荧光发光采用了积分半球unit，实现了明亮的光学系采用了低迷光多通道分光检出器，大大减少了...